通过利用石英玻璃和熔融石英生产中成熟的原材料和工艺,贺利氏让客户能够使用确切匹配其特殊需求的特定材料。
贺利氏将原材料和生产技术方面的专业知识相结合,从而为具有匹配客户应用特定性能的新材料等级和品质开发提供了非常多的可能。
通过利用石英玻璃和熔融石英生产中成熟的原材料和工艺,贺利氏让客户能够使用确切匹配其特殊需求的特定材料。
贺利氏将原材料和生产技术方面的专业知识相结合,从而为具有匹配客户应用特定性能的新材料等级和品质开发提供了非常多的可能。
材料 | 应用 | 特点 |
---|---|---|
F 300® | 用作内芯或包层。用于光导纤维生产的成熟工业标准。 | 低OH高纯度熔融石英 |
F 500® | 通常用作CVD工艺的衬底管件 | 无OH高纯度熔融石英 |
F 320® |
通常用作抗弯光纤生产中折射率分布图的沟槽。 也可能用作光纤纯二氧化硅内芯的包层 |
具有更低折射率的高纯度熔融石英 |
F 520 | 通常用作抗弯光纤生产中折射率分布图的沟槽。 | 具有更低折射率的无OH高纯度熔融石英 |
材料等级 | 生产类型 | 应用 | 特点 |
---|---|---|---|
HSQ® 100 | 电熔 | 工业 | 成本效用型直拉棒材、小型管材(OD < 65mm)。非常高粘度石英 |
HSQ® 300 |
电熔 | 半导体、太阳能和工业 |
高化学纯度、低气泡率和低夹杂物含量。 非常高粘度石英 |
HSQ® 330 |
电熔 | 高纯度及超高纯度半导体 | 最高化学纯度、低气泡率和低夹杂物含量的石英管材、柱状件、棒材、晶棒和板材。非常高粘度石英。 |
HSQ® 400 |
电熔 | 工业、太阳能、半导体 |
高化学纯度、低气泡率和低夹杂物含量。 非常高粘度石英。由于外表面在高于1160°C工艺温度下的稳定性,在相应高温下变形较小。 |
HSQ® 700 |
电熔 | 半导体、工业 | 非常高的纯度,尤其是碱金属浓度低。 |
OM® 100 |
烧结石英 | 半导体、工业、太阳能、热绝缘部件、红外辐射阻断器 | 用于法兰、垫片和反射板的半导体级纯度高反射石英。 |
TSC-3® / TSC-4 |
气熔 | 半导体,尤其适用于刻蚀系统。 | 具有低气泡率和夹杂物含量的成本效用型石英玻璃,可作为石英锭和近净成型厚壁空心柱供应。 |
HSQ® 351/ HSQ® 751 |
气熔 | 用于半导体制造设备,尤其是炉管系统 | 抑制金属污染物的向外扩散。 |
HSQ® 900 | 合成 | 用于先进的半导体应用 | 卓越的合成化学纯度。几乎无气泡和夹杂物。 |
HBQ® 100 | 烧结石英 | 半导体、工业、太阳能 | 半导体级高纯度,高热吸收率及高光学吸收率,高热发射系数 |
材料等级 | 应用 | 特点 |
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HOQ® 310 | 光学元件 | 普通光学等级,更高粘度 |
Infrasil® 301 / Infrasil® 302 | 近红外应用 | 普通红外等级,更高粘度,功能通光面(302)或所有维度(301)折射率均匀 |
Spectrosil 2000 | 紫外+可见光应用 | 普通紫外等级,紫外吸收性好 |
Suprasil® 1 / Suprasil® 2 ArF/KrF | 准分子等级 | 专用于高功率紫外激光器(用于准分子激光级别) |
Suprasil® 1 / Suprasil® 2A | 紫外应用 | 更高紫外稳定性,功能通光面(2A)或所有维度(1)折射率均匀 |
Suprasil® 2B | 紫外+可见光应用 | 通用紫外等级 |
Suprasil® 300 | 红外应用 | 用于红外的非常低OH含量的石英玻璃等级 |
Suprasil® 3001 / Suprasil® 3002 | 所有红外应用,例如:红外激光、熔融石英光学元件 | 非常低OH含量,功能通光面(3302)或所有维度(3301)折射率均匀 |
Suprasil® 311 / Suprasil® 312 | 紫外应用 | 短波紫外等级,功能通关面(312)或所有维度(311)折射率均匀 |
Suprasil® 313 | 激光窗口片, 具有标准规格的熔融石英光学器件 | 高性价比熔融石英玻璃 |
Suprasil® 3301 / Suprasil® 3302 | 全波段应用 | 低OH 合成物,功能通光面(3302)或所有维度(3301)折射率均匀 |
Suprasil® CG | 紫外+可见光应用 | 商用紫外级别 |
Suprasil® UVL | 紫外光应用 | 高能紫外激光级别 |
HOD® | 色散片(如:应用于激光器和光谱仪领域) | 性能随厚度不同有所变化,可针对不同应用领域,易于清洁,具有熔融石英玻璃的机械性能和化学性能 |
材料等级 | 生产类型 | 应用 | 特点 | 灯具类型 |
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HLQ® 200 | 电熔 | 红外加工、紫外固化、紫外消杀、投影灯、SC和LCD步进机用投射灯 | 透明熔凝、可获得< 1 ppm的低OH | 红外线灯、低压和中压紫外灯、套管、金属卤化物灯 |
HLQ® 210 | 电熔 |
激光应用、美容和生物医学 高品质的光源 |
透明熔凝、可获得< 1 ppm的低OH、低气泡含量、高均匀性 |
长弧连续波和脉冲灯、 高要求短弧灯 |
HLQ® 270 | 电熔 |
数字投影用灯 舞台和工作室用灯、影院用灯 |
透明熔凝、可获得< 1 ppm的低OH、高均匀性、低碱金属含量、高重结晶抗性 | 高压和超高压短弧灯、高要求金属卤化物灯、高要求长弧连续波和脉冲灯 |
HLQ® 235 | 电熔 | 紫外消杀、SC和LCD步进机用投射灯 |
掺杂的、无臭氧*, 可获得 < 1 ppm的低OH |
无臭氧低压和中压紫外灯、短弧灯 |
HLQ® 250 | 电熔 | 紫外晒黑 |
掺杂的、无臭氧*, 可获得 < 1 ppm的低OH |
符合FDA的无臭氧灯 |
HLQ® 382 | 电熔 | 泵浦灯(例如,激光核聚变) | 掺杂的、抗紫外** | 长弧灯 |
Heralux® plus / vuv | 气熔 |
紫外固化、紫外应用 激光应用 |
透明熔凝、几乎无气泡、良好的紫外透过率、高紫外辐射耐受性 | 中压紫外灯、长弧灯 |
M215 / M235 | 气熔 | SC和LCD步进机用投射灯 | 掺杂的、无臭氧*、无条纹 |
无臭氧短弧灯 |
M 235 plus | 气熔 | SC和LCD步进机用投射灯、激光应用、医学 | 掺杂的、无臭氧*、高均匀性、无条纹 |
高光强无臭氧短弧灯 无臭氧长弧灯 |
M 382 plus | 气熔 | 激光应用、美容和医学 | 掺杂的、抗紫外**、高均匀性、无条纹 |
长弧连续波和脉冲灯 强脉冲灯 |
Suprasil® 030 | 合成 | 消杀和纯化 | 高纯度、高紫外透过率 | 深紫外用中压灯、深紫外用长寿命套管 |
Suprasil® 130 | 合成 | 臭氧的产生、油脂的破坏、消杀和纯化、超纯水的生产 | 高纯度、高紫外透过率、高短波紫外辐射耐受性 |
185 nm 低压紫外灯、 深紫外用中压紫外灯 |
Suprasil® 300 | 合成 | 光谱学、宽波段光学应用 | 高纯度、OH < 1 ppm、无气泡、从紫外到红外光谱范围的高透过性 | 氘灯、高光强微波灯 |
Suprasil® 310 | 合成 | SC和LCD加工中的表面清洁、光化学气相沉积、表面活化、光化学 | 高纯度、无气泡、高紫外透过率、短波紫外辐射耐受性 |
172 nm氙准分子灯、 极高要求长弧灯 |
Spectrosil 2000 | 合成 | 高光强真空紫外灯 | 高纯度、无气泡最高紫外透过率、短波紫外辐射耐受性 | 高光强短波紫外短弧灯 |
Purasil® | 合成 | 消杀和纯化 | 高纯度、高紫外透过率 | 深紫外用长寿命套管 |
Purasil® XP | 合成 | 消杀和纯化 |
高纯度、高紫外透过率、高 短波紫外辐射耐受性 |
深紫外用长寿命套管 |
* (臭氧的形式被吸收所在的波长)
** (紫外波长被吸收)