贺利氏黑石英可以用于多种用途,例如晶片
HBQ是批次沉积工艺炉中空白片和测试片的理想材料。HBQ的热膨胀系数(CTE)与SiO2一致,所以特别适用于TEOS或其它SiO2沉积工艺。
有了HBQ,客户可以从其多种特性中获益
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