贺利氏科纳米品牌和材料等级

通过利用石英玻璃和熔融石英生产中成熟的原材料和工艺,贺利氏让客户能够使用确切匹配其特殊需求的特定材料。

贺利氏将原材料和生产技术方面的专业知识相结合,从而为具有匹配客户应用特定性能的新材料等级和品质开发提供了非常多的可能。

表中的内容

针对关键市场的品牌和材料等级

材料等级 应用 特点
HOQ® 310 光学元件 普通光学等级,更高粘度
Infrasil® 301 / Infrasil® 302 近红外应用 普通红外等级,更高粘度,功能通光面(302)或所有维度(301)折射率均匀
Nerasil® 镜子底板,光束倾倒,比色皿 高吸收性的熔融石英
Spectrosil 2000 紫外+可见光应用 普通紫外等级,紫外吸收性好
Suprasil® 1 / Suprasil® 2 ArF/KrF 准分子等级 专用于高功率紫外激光器(用于准分子激光级别)
Suprasil® 1 / Suprasil® 2A 紫外应用 更高紫外稳定性,功能通光面(2A)或所有维度(1)折射率均匀
Suprasil® 2B 紫外+可见光应用 通用紫外等级
Suprasil® 300 红外应用 用于红外的非常低OH含量的石英玻璃等级
Suprasil® 3001 / Suprasil® 3002 所有红外应用,例如:红外激光、熔融石英光学元件 非常低OH含量,功能通光面(3302)或所有维度(3301)折射率均匀
Suprasil® 311 / Suprasil® 312 紫外+可见光应用 短波紫外等级,功能通关面(312)或所有维度(311)折射率均匀
Suprasil® 313 激光窗口片, 具有标准规格的熔融石英光学器件 高性价比熔融石英玻璃
Suprasil® UVL 紫外光应用 高能紫外激光级别

材料等级 生产类型 应用 特点
HSQ® 100 电熔 工业 高热稳定性,由于采用直拉电熔工艺,成本效益高的解决方案,高化学纯度
HSQ® 300 电熔 半导体、太阳能和工业 高热稳定性,超高化学纯度,气泡和杂质含量低
HSQ® 330 (S) 电熔 高纯度及超高纯度半导体 高热稳定性,超高化学纯度,特别是对碱金属及其它金属含量有更严格的控制 ,低气泡和杂质含量
HSQ® 400 电熔 工业、太阳能、半导体 由于有化学稳定层,热稳定更高,高化学纯度,气泡和夹杂物含量低
HSQ® 700 电熔 半导体、工业 高热稳定性,超高化学纯度,特别是碱性金属含量特别低,气泡和夹杂物含量低
TSC®-3N 气熔 半导体,尤其适用于刻蚀系统。 非常低的气泡和夹杂物含量,由于大批量的气炼熔融过程,具有成本效益的解决方案,高化学纯度
TSC®-3 气熔 半导体,尤其适用于刻蚀系统。 非常低的气泡和夹杂物含量,超高化学纯度,可提供很大尺寸的几何形状。
TSC®-4 气熔 半导体,尤其适用于刻蚀系统。 非常低的气泡和夹杂物含量,超高化学纯度,特别是低铝和低碱含量,也可提供大尺寸的几何形状
OM® 100 烧结石英 半导体、太阳能和工业 高热反射率,超高化学纯度,优良的表面平整度
HBQ® 100 烧结石英 半导体、太阳能和工业 高热及光学吸收,超高化学纯度,高热辐射率
HSQ®-T 合成 用于先进的半导体应用 杰出的合成级化学纯度,大多数杂质元素低于仪器检测限,可提供不同的几何形状。
TSC®-T 合成 用于先进的半导体应用 尤其适用于刻蚀系统。 杰出的合成级化学纯度,几乎没有气泡和杂质,可提供大批量的特定几何形状。
Neonyx® OM 合成 用于先进的半导体应用 杰出的合成级化学纯度,增加了热反射特性,也可提供近净形的几何尺寸
HSQ® 900 合成 用于先进的半导体应用 杰出的合成级化学纯度,几乎不含气泡和杂质,可提供不同的几何形状
Spectrosil® 1000 合成 用于先进的半导体应用 杰出的合成级化学纯度,几乎没有气泡和杂质,也可作为大型铸锭材料提供

材料等级 生产类型 应用 特点 灯具类型
HLQ® 200 电熔 红外加工、紫外固化、紫外消杀、投影灯、SC和LCD步进机用投射灯 透明熔凝、可获得< 1 ppm的低OH 红外线灯、低压和中压紫外灯、套管、金属卤化物灯
HLQ® 210 电熔 激光应用、美容和生物医学
高品质的光源
透明熔凝、可获得< 1 ppm的低OH、低气泡含量、高均匀性 长弧连续波和脉冲灯、
高要求短弧灯
HLQ® 270 电熔 数字投影用灯
舞台和工作室用灯、影院用灯
透明熔凝、可获得< 1 ppm的低OH、高均匀性、低碱金属含量、高重结晶抗性 高压和超高压短弧灯、高要求金属卤化物灯、高要求长弧连续波和脉冲灯
HLQ® 235 电熔 紫外消杀、SC和LCD步进机用投射灯 掺杂的、无臭氧*,
可获得 < 1 ppm的低OH
无臭氧低压和中压紫外灯、短弧灯
HLQ® 250 电熔 紫外晒黑 掺杂的、无臭氧*,
可获得 < 1 ppm的低OH
符合FDA的无臭氧灯
HLQ® 382 电熔 泵浦灯(例如,激光核聚变) 掺杂的、抗紫外** 长弧灯
Heralux® plus / vuv 气熔 紫外固化、紫外应用
激光应用
透明熔凝、几乎无气泡、良好的紫外透过率、高紫外辐射耐受性 中压紫外灯、长弧灯
M215 / M235 气熔 SC和LCD步进机用投射灯 掺杂的、无臭氧*、无条纹 无臭氧短弧灯
M 235 plus 气熔 SC和LCD步进机用投射灯、激光应用、医学 掺杂的、无臭氧*、高均匀性、无条纹 高光强无臭氧短弧灯
无臭氧长弧灯
M 382 plus 气熔 激光应用、美容和医学 掺杂的、抗紫外**、高均匀性、无条纹 长弧连续波和脉冲灯
强脉冲灯
Suprasil® 030 合成 消杀和纯化 高纯度、高紫外透过率 深紫外用中压灯、深紫外用长寿命套管
Suprasil® 130 合成 臭氧的产生、油脂的破坏、消杀和纯化、超纯水的生产 高纯度、高紫外透过率、高短波紫外辐射耐受性 185 nm 低压紫外灯、
深紫外用中压紫外灯
Suprasil® 300 合成 光谱学、宽波段光学应用 高纯度、OH < 1 ppm、无气泡、从紫外到红外光谱范围的高透过性 氘灯、高光强微波灯
Suprasil® 310 合成 SC和LCD加工中的表面清洁、光化学气相沉积、表面活化、光化学 高纯度、无气泡、高紫外透过率、短波紫外辐射耐受性 172 nm氙准分子灯、
极高要求长弧灯
Spectrosil 2000 合成 高光强真空紫外灯 高纯度、无气泡高紫外透过率、短波紫外辐射耐受性 高光强短波紫外短弧灯
Purasil® 合成 消杀和纯化 高纯度、高紫外透过率 深紫外用长寿命套管
Purasil® XP 合成 消杀和纯化 高纯度、高紫外透过率、高
短波紫外辐射耐受性
深紫外用长寿命套管

* (臭氧的形式被吸收所在的波长)
** (紫外波长被吸收)

几十年来,Fluosil®在高功率、科学或医疗应用的光纤领域以其纯度、可靠性和质量而闻名。

更多信息Fluosil®

品牌和材料等级 A 到 Z

Fluosil®

几十年来,Fluosil®在高功率、科学或医疗应用的光纤领域以其纯度、可靠性和质量而闻名。

HBQ®

一种独特的黑色不透明石英玻璃复合材料,用于半导体应用。

Heralux®

关于持久耐用的工业照明应用

HLQ®

高效工业照明的基本等级

HOQ®

这是一个用于可见和近红外光谱范围内要求不高的光学应用的传统基础等级。

HSQ®

用于半导体应用的全套组合材料。

Infrasil®

用于近红外光学应用的天然熔融石英

Neonyx®

用于半导体制造的新合成石英标准。

Nerasil®

用于光学应用的高性能黑色熔融石英

OM®

用于半导体制造的高纯度不透明石英玻璃。

Purasil® V

用于水和空气处理的持久高效的合成熔融石英解决方案。

Spectrosil®

无气泡高纯度熔融石英,应用范围广泛。

Suprasil®

应用于光电领域的高纯度合成熔融石英

TSC®

是满足半导体应用中低气泡和杂质要求的解决方案。

Vitreosil®

适用于光学和灯源应用的所有天然熔融石英等级的总品牌。Vitreosil®自1899年以来一直代表着高质量的熔融石英产品。