用于半导体制程的熔融石英和合成石英管

用于半导体制程：如CVD、扩散、退火等工艺的熔融石英及合成石英管。贺利氏科纳米生产各种材料等级和尺寸的熔融石英和合成石英管。贺利氏石英管具有高纯度和高材料均匀性的特点，同时保持低气泡含量和严格的尺寸公差。

在下文中，您将看到贺利氏科纳米关于各种熔融技术的概述，每种技术都对应了贺利氏在该领域先进的材料解决方案

电熔石英管
HSQ®100直拉石英管是在电熔工艺中制作的，为许多工业应用提供了具有成本效益的解决方案。
对于要求更高的先进半导体制程，贺利氏科纳米可以根据客户应用的纯度要求，提供HSQ®300、HSQ®330和HSQ®330S等纯度规格的直拉和二次拉制电熔石英管。
这使得材料具有更高的均匀性和低羟基含量，确保材料在使用过程中具有高热稳定性。
电熔及热稳定处理的石英管
对于高温应用，贺利氏可以提供热稳定处理的电熔石英管，其温度稳定性进一步提高，改善了在高温下工作时抗下垂性能。
因此，所使用的大直径熔融石英管经过特殊药剂的浸渍，以促使在最终应用过程中形成稳定层。这种熔融石英管称为HSQ®400材料。

合成熔融石英管

贺利氏科纳米生产合成熔融石英管，以满足半导体行业最苛刻的工艺要求。HSQ®900提供ppb级的材料纯度和零气泡含量的特点。

熔融石英和合成石英管在半导体批量炉加工中被用作高纯反应腔室、气体或液体入口或运输管路。

贺利氏科纳米产品组合涵盖多种牌号，以满足OEM的所有要求，包括具有挑战性的超高纯度规格。