熔融石英管可作为高纯反应室、气体/液体入口或输送管道广泛应用于分批式烧制炉之中。
气泡含量低、纯度高和严苛的尺寸公差是这些熔融石英管的重要特性,可满足半导体行业的严苛要求。
这些管材既可作为原材料, 亦可作为成品解决方案 .
熔融石英管可作为高纯反应室、气体/液体入口或输送管道广泛应用于分批式烧制炉之中。
气泡含量低、纯度高和严苛的尺寸公差是这些熔融石英管的重要特性,可满足半导体行业的严苛要求。
这些管材既可作为原材料, 亦可作为成品解决方案 .
贺利氏可提供各种等级的电熔石英管,以满足半导体行业不同的纯度要求。电熔工艺可生成粘度最高的石英材料,适用于对粘度要求苛刻的分批式高温烧制炉和单片式炉。
直径范围:2 mm
半导体制造的线宽不断变小,合成熔融石英的使用能更好地满足对更高环境清洁度的要求。合成熔融石英的杂质含量更低。
直径范围:2 mm
卧式炉的扩散、氧化和退火工序要求非常苛刻,需要在高温环境下(>1150°C)能保持温度稳定性能的特种石英材料。贺利氏HSQ®400可以很好地应对这些加工环境的挑战。