全球首创:贺利氏black.infrared 显著提高半导体生产中加热工艺的效率

中国国际半导体设备和材料展览会暨研讨会 (SEMICON China): 一款适用于光伏和玻璃涂层领域的新型红外线辐射器问世,其创新的设计能实现高纯度真空条件下极为均匀的热处理过程

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贺利氏black.infrared 显著提高半导体生产中加热工艺的效率

中国国际半导体设备和材料展览会暨研讨会(SEMICON China)将于3月中旬在上海盛大举行。届时,贺利氏特种光源将携带在半导体和光伏行业里的全球首创技术——black.infrared亮相此展会。这一创新的红外线系统完全根据全新的辐射器原理工作。平滑低轮廓的辐射器被特殊研发的黑色石英玻璃材料覆盖,这种组合有助于在高能量密度下极其均匀地传输红外热能。这使得加热过程在空间和能量上都更加高效。特别是在极小区域且产品需要快速均匀加热的情况下,切换到black.infrared可显著缩短加工时间并有效提高产品质量,例如在微芯片生产中。

这款辐射器也适用于在高纯度真空条件下运行。与传统的陶瓷和金属辐射器相比,该工艺可以在晶片生产过程中将杂质降至最低。贺利氏特种光源副总裁 Rolf Diehl 解释说:“Black.infrared 技术的研发是为了满足半导体生产和光伏技术工艺的苛刻需求。该设计和辐射器技术的全新组合是真空条件下高效超纯加热工艺革命性的突破。”

创新在半导体行业里极为有趣
在制造微芯片期间,半导体工艺技术需要进行多个烘干或固化的热工艺处理步骤,例如智能手机的微芯片生产。在制造过程中,避免微芯片里的化学杂质和各个生产工艺步骤中灰尘颗粒的进入是非常重要的。因为,即使最微小的微量杂质也会导致微芯片有缺陷而无法使用。贺利氏新型辐射器使用特殊研发的黑色石英玻璃作为载体材料,由于此材料化学纯度极高(仅由硅和氧组成),因此是加热工艺的理想选择。此外,black.infrared辐射器的设计使得辐射表面允许最佳的均匀性,而与距离无关。这十分有助于优化使用过程空间。

在项目的测试和开发期间已经显现出,这一新组合凭借突出的均匀性和最优控制的辐射源能够显著提高能效。“black.infrared辐射器首创将约2.5μm中波红外光与高电能相结合。该组合迄今为止是独一无二的”,Rolf Diehl补充道。在未来,更多工业领域的加热工艺也能受益于这个新的红外线系统,因为这种中波红外辐射尤其适用于玻璃、塑料和大多数涂层工艺。

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