常见的两种薄层测量方法是反射计和椭园偏振法。两者都是利用光学进行的无接触式测量:借助样品反射的光线,在不接触的情况下即可测量出层厚。
层厚测量用于光学工业中特定生产步骤的质量检测,此外也用于显示屏和半导体生产中。
贺利氏光学分析光源在不同的工业领域中,被用于测量极薄的涂层层厚。
常见的两种薄层测量方法是反射计和椭园偏振法。两者都是利用光学进行的无接触式测量:借助样品反射的光线,在不接触的情况下即可测量出层厚。
层厚测量用于光学工业中特定生产步骤的质量检测,此外也用于显示屏和半导体生产中。
针对不同需求,贺利氏可提供具有不同光谱范围的可靠分析光源。