用于薄层测量的光源

贺利氏光学分析光源在不同的工业领域中,被用于测量极薄的涂层层厚。

层厚测量t

常见的两种薄层测量方法是反射计和椭园偏振法。两者都是利用光学进行的无接触式测量:借助样品反射的光线,在不接触的情况下即可测量出层厚。

层厚测量用于光学工业中特定生产步骤的质量检测,此外也用于显示屏和半导体生产中。

可以测量的对象包括:

  • 光滑表面/曲面
  • 由液态和/或固态物质构成的单层和多层
  • 金属、塑料、玻璃等材料

针对不同需求,贺利氏可提供具有不同光谱范围的可靠分析光源。