광산 발생제 (PAG)

마이크로 칩의 지속적인 소형화와 반도체 처리능력의 향상에 따라 포토리소그래피 공정도 지속적인 개선 이 요구 되고 있습니다.헤레우스 이퓨리오의 PAG는 포토레지스트에 독특한 특성을 제공합니다.

광산 발생제(PAG)

오늘날 사용하는 스마트폰은 이미 1969년 첫 번째 사람을 달에 보냈던 컴퓨터의 전체 계산능력을 초월했습니다. 마이크로칩의 소형화와 끊임없이 진화하는 반도체의 계산능력을 통해 이러한 놀라운 발전이 가능해졌습니다.

무선연결, 정밀한 자동차 기능 또는 사물인터넷의 증가에 따라 최고의 기술을 가진 반도체의 수요가 부단히 증가합니다. 고순도 특수 화학물질은 메모리 및 로직칩 생산에서 중요한 코팅층을 형성하는 포토리소그래피 공정에 사용되는 기본 원료입니다.

헤레우스 데이켐(Heraeus Daychem)으로 알려진 헤레우스 이퓨리오(Hereaus Epurio)는 30년 이상 오하이오주 데이턴에서 전자재료용 광활성 소재를 생산해 왔습니다.

이러한 제품은 대부분 고순도 재료이고 99.5 % 의 순도와 모든 26종 금속이 10ppb 이하의 금속함량을 자랑합니다. 심지어 기존의 화학물질을 사용해도 해상도를 훨씬 높게 합니다.

헤레우스에서는 귀사의 요구사항을 매우 진지하게 받아들입니다. 헤레우스는 항상 귀사와 긴밀한 협력을 통해 귀사의 비즈니스를 위한 최선의 해결책을 찾기 위해 노력합니다. 헤레우스는 소량 및 대량의 제품을 제공해 드리며 고객의 지적재산권을 보호하고 생산 확장을 도와드립니다.

i-line 및 광대역 PAG

다양한 화학 증폭형 포토레지스트 적용에서 매우 민감하고 가용성이 좋은 i-line PAG에 대한 수요가 현저히 증가하고 있습니다. 이러한 수요를 충족하기 위해 헤레우스 이퓨리오는 i-line, 광대역 및 g-line 제품 세트를 개발했습니다.

이 제품들의 순도는 모두 헤레우스 이퓨리오의 입증된 전자 등급 품질 표준에 도달합니다. 대부분의 PAG는 최대 톤단위까지 생산가능하여 효율적으로 비용을 절감 할 수 있으므로 반도체 패키징과 디스플레이 레지스트에 있어서 매력적입니다.

약산 PAG

민감한 수지와 배합하기 위해서는 약산을 사용해야 합니다. 헤레우스 이퓨리오는 기존 대비 효율적인 대안으로 성능이 입증된 광감응성의 약산 조합을 제공합니다. 이 제품 범위는 최고의 순도와 품질 요구사항을 지속해서 충족합니다.

열산 발생제

후막형 포토레지스트에 대한 수요를 충족시키기 위해 점점 더 많은 배합에서 베이킹 후 최종 경화를 가능하게 하는 열산 발생제를 포함하고 있습니다. 헤레우스 이퓨리오는 다양한 산 방출 온도를 가진 범용적인 제품 시리즈를 제공합니다. 최종 적용을 위해 반도체 등급의 순도와 비용 효율성이 가장 중요합니다.

광개시제

헤레우스는 범용 기술을 기반으로 매우 민감하고 열 안정형 광개시제를 생산 및 판매합니다. 이 광개시제는 중성색을 띠고 일반적인 레지스트 용매에 잘 용해됩니다. 이 제품은 이미 주요 레지스트 생산업체에 의해 검증되었으며 디스플레이 레지스트 및 반도체 패키징 레지스트 제조에 관해 경쟁력있는 해결책을 제공합니다.